전산화단층촬영법을 이용한 상악동 측벽의 형태학적 분석
Morphological Analysis of the Sinus Lateral Wall using Computed Tomography
김용건,
소속 상세정보
김용건 ( Kim Yong-Gun ) - 중앙대학교 치과센터 치주과
KMID : 1004520110270030285
Abstract
이번 연구는 전산화단층촬영법 (computed tomography)을 이용하여 상악동 측벽의 두께를 측정하고, 상악동 거상술을 위한 측벽창 (lateral wall window)형성 시 가장 적절한 수직적 위치를 평가하고자 한다. 상악동 거상술이 필요한 30명 환자의 전산화단층촬영 방사선영상을 대상으로 분석하였다. 상악동 측벽의 두께는 상악동 하연을 기준으로 수직적 위치에 따라 분류하고, 3회 반복 측정하여 평균을 구하였다. 상악동 측벽의 두께는 상악동 하연 (sinus inferior border, SIB)을 기준으로 상방 2 mm (SIB + 2) 까지는 2 mm 이상으로 관찰되었고, 상악동의 하연을 기준으로 3 mm 상방 (SIB + 3)에서는 2 mm 미만으로 나타났다. 이번 연구에서 근거하여 측방 접근법을 이용한 상악동 거상술에서 측벽창의 위치는 상악골의 하연을 기준으로 약 3 mm 상방에서 형성하는 것이 적절할 것으로 사료된다.
The purpose of thise study was to measure the thickness of the sinus lateral wall using computed tomography (CT), and to find the most suitable vertical position for lateral window opening prior to sinus elevation. Thirty patients requiring sinus elevation had CT images taken with Philips Brilliance iCT. The thickness of the sinus lateral wall was measured according to its vertical position against the sinus inferior border, and its mean was calculated through three repeated measurements. When measured 2 mm above the sinus inferior border (SIB+2), the thickness of the sinus lateral wall was observed to be more than 2 mm. When measured 3 mm above the sinus inferior border (SIB +3), the sinus lateral wall was less than 2 mm in thickness. It is recommended that the lateral wall window be made 3 mm above the sinus inferior border when performing sinus elevation using the lateral approach.
키워드
전산화단층촬영법;상악동;상악동 측벽의 두께
Computed tomography;sinus inferior border;lateral wall thickness
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